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Pantalla LCD TFT de 0.96 pulgadas
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Atributos del producto

ModeloOLED DISPALY

Embalaje y entrega
Unidades de venta: Piece/Pieces
Tipo de paquete: caja de cartón
Descripción

La pantalla TFT está equipada con un tubo de luz especial en la parte posterior del cristal líquido, que puede controlar activamente varios píxeles independientes en la pantalla. Este es el origen de la llamada matriz activa TFT (Active Matrix TFT), que puede mejorar en gran medida el tiempo de respuesta. En términos generales, el tiempo de respuesta de TFT es relativamente rápido, aproximadamente 80 milisegundos, mientras que STN es de 200 milisegundos. Si se necesita una mejora, Flicker ocurrirá Matriz Pasivo OLED . Y debido a que el TFT es una LCD de matriz activa, puede memorizar la disposición del cristal líquido, y no volverá a su estado original inmediatamente después de que la corriente desaparezca la pantalla de diodos emisores de luz orgánicos .

La visualización de la pantalla TFT adopta el modo de iluminación transparente trasero: la ruta de fuente de luz supuesta no es de arriba a abajo como TNLCD, sino de OLED de 0.96 pulgadas de abajo hacia arriba . Este método es establecer un tubo de luz especial en la parte posterior de la pantalla LCD, y la fuente de luz penetra hacia arriba a través del polarizador inferior cuando se irradia. Dado que los electrodos internos superiores e inferiores se cambian a electrodos FET y electrodos comunes, cuando los electrodos FET están activados, el rendimiento de las moléculas LCD también cambiará, y el propósito de la pantalla se puede lograr a través de un blindaje de luz y transmisión de luz. El tiempo de respuesta se mejora en gran medida a aproximadamente 80 milisegundos. Debido a que tiene una relación de contraste más alta, colores más ricos y frecuencia de actualización de pantalla más rápida que TN-LCD, TFT se conoce comúnmente como color verdadero de 0.42-1.3 pulgadas OLED .
Tft Lcd 20
En comparación con DSTN, la característica principal de TFT-LCD es configurar un dispositivo de conmutación de semiconductores para cada píxel. Porque cada píxel puede controlarse directamente con pulsos de puntos. Por lo tanto, cada nodo es relativamente independiente y puede controlarse continuamente. Este método de diseño no solo mejora la velocidad de respuesta de la pantalla, sino que también controla con precisión el nivel de gris de pantalla, por lo que el color de TFT es más realista que DSTN.

TFT también mejora la desenfoque de STN Flicker (Water Ripple) y mejora efectivamente la capacidad de jugar imágenes dinámicas. En comparación con STN, TFT tiene una excelente saturación de color, capacidad de recuperación y mayor contraste, pero la desventaja es un alto consumo de energía y un alto costo.

Características técnicas de la pantalla LCD TFT

La tecnología TFT se desarrolló en la década de 1990. La tecnología de fabricación de circuitos integrados de semiconductores completos a gran escala utilizando nuevos materiales y nuevos procesos es la base de las pantallas de panel plano de electroluminiscencia de película delgada inorgánica y orgánica (EL y OEL). TFT es una oblea no soltera, como el sustrato de vidrio o plástico (por supuesto, también puede estar en una oblea). Se forman varias películas delgadas necesarias para los circuitos de fabricación a través de técnicas de pulverización y deposición química, y los circuitos integrados de semiconductores (LSIC) a gran escala se fabrican a través del procesamiento de película delgada. El uso de sustratos de cristal no solteros puede reducir en gran medida los costos. Esta es una extensión de los circuitos integrados tradicionales a gran escala a las direcciones de gran área, multifunción y de bajo costo. Es más difícil fabricar TFT que controlan el rendimiento de conmutación de píxeles (LC o OLED) en un sustrato de vidrio o plástico de gran área que para fabricar circuitos integrados a gran escala en el silicio. Los requisitos para el entorno de producción (el título de purificación es de 100), los requisitos para la pureza de las materias primas (la pureza del gas electrónico es 99.9999985%) y los principales requisitos para el equipo de producción y los equipos de producción exceden la tecnología de semiconductores.

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