Reemplace el OLED de COG LCD para Watch-0.96 pulgadas

Las características de la pantalla de cristal líquido TFT tienen principalmente las características de un área grande, alta integración, función fuerte, bajo costo, tecnología flexible y amplios campos de aplicación.

A continuación introduciremos las diversas características de la pantalla LCD TFT en detalle:

(1) Área grande: la primera generación de la línea de producción de pantalla TFT de suscripción de vidrio de área grande (300 mmx400 mm) se produjo a principios de la década de 1990. En la primera mitad de 2000, el área del sustrato de vidrio se expandió a 680 mmx880 mm. Recientemente, el sustrato de vidrio de 950 mmx1200 mm también se ha puesto en funcionamiento transistor de película delgada .

(2) Alta integración: el chip de pantalla TFT de 1.3 pulgadas utilizado para la proyección de cristal líquido tiene una resolución de XGA y contiene millones de píxeles. El grosor de la película de la matriz de visualización de cristal Liquid Liquid de 16.1 pulgadas con resolución SXGA (1280x1024) y silicio amorfo es solo 50 nanómetros. El nivel de integración de las tecnologías Tabonglas y SystemongLass, los requisitos de la tecnología de equipos y suministros, y la dificultad técnica exceden las del módulo LSI TFT LSI tradicional .

(3) Función potente: la pantalla LCD TFT se usó originalmente como un circuito de direccionamiento de matriz para mejorar las características de la válvula de luz de cristal líquido. Para pantallas de alta resolución, el control correcto del elemento del objeto se logra a través del ajuste de voltaje en el rango de 0-6V (el valor típico es 0.2 ~ 4V), y la pantalla LCD puede lograr una pantalla de alta resolución de alta calidad TFT Pantalla LCD .

(4) Bajo costo: los sustratos de vidrio y los sustratos de plástico resuelven fundamentalmente el problema de costo de los circuitos integrados de semiconductores a gran escala, abriendo un amplio espacio de aplicación para la aplicación de circuitos integrados de semiconductores a gran escala.

(5) Flexibilidad del proceso: además de la pulverización, CVD (deposición de vapor químico) MCVD (deposición de vapor químico molecular) y otros procesos tradicionales para la formación de películas, la tecnología de recocido láser también puede usar películas amorfas, película de productos múltiples y películas de productos únicos . Se puede usar como película de silicio, así como otro grupo I-VI y película de semiconductores grupales de cuatro V.

(6) amplios campos de aplicación. La pantalla LCD Liquid Crystal basada en la tecnología TFT es la industria de los pilares de la Sociedad de la Información, y también se puede aplicar a la pantalla plana de la electroluminiscencia orgánica (TFT-Oled) en rápido desarrollo del transistor delgado.